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イノベンティア・リーガル・アップデート

タグ : 特許法等の一部を改正する法律

Innoventier Legal Update
イノベンティア・リーガル・アップデートでは、有益な法律情報をいち早くピックアップし、分かりやすく解説します。
 

令和元年(2019年)意匠法改正~保護対象の拡充/関連意匠制度の見直し/存続期間の変更/出願手続の簡素化/間接侵害規定の拡充~

令和元年(2019年)5月10日、改正特許法が成立し、同月17日、公布されました。今回、意匠法が大幅に改正されることになり、物品に記録・表示されていない画像や、建築物の外観・内装のデザインが新たに意匠法の保護対象とされるほか、関連意匠の出願可能期間の延長、存続期間の変更、複数の意匠の一括出願を認める等の出願手続の簡素化、侵害品を構成部品に分割して製造・輸入等する行為を取り締まるための間接侵害規定の拡充がなされます。

令和元年(2019年)特許法改正~査証制度の新設/損害賠償算定方法の見直し~

令和元年(2019年)5月10日、改正特許法が成立し、同月17日、公布されました。今回の改正では、第三者の専門家が工場等に立ち入って調査を行う新たな証拠収集制度(査証制度)が新設されるとともに、損害賠償の算定方法について見直しがなされました。

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