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イノベンティア・リーガル・アップデート

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Innoventier Legal Update
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令和元年(2019年)意匠法改正~保護対象の拡充/関連意匠制度の見直し/存続期間の変更/出願手続の簡素化/間接侵害規定の拡充~

令和元年(2019年)5月10日、改正特許法が成立し、同月17日、公布されました。今回、意匠法が大幅に改正されることになり、物品に記録・表示されていない画像や、建築物の外観・内装のデザインが新たに意匠法の保護対象とされるほか、関連意匠の出願可能期間の延長、存続期間の変更、複数の意匠の一括出願を認める等の出願手続の簡素化、侵害品を構成部品に分割して製造・輸入等する行為を取り締まるための間接侵害規定の拡充がなされます。

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